KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中硅离子的还原机理研究

何小凤; 李运刚; 李智慧

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DOI:doi：10.3969/j.issn.1007-7545.年份.期号.顺序号

有色金属（冶炼部分）:2010,(2):-

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KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中硅离子的还原机理研究

Study on Reductive Mechanism of Si Ion in KCl-NaCl-NaF-SiO2

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中文摘要: 在KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中,以铂丝为参比电极、研究电极,高纯石墨坩埚为辅助电极,采用循环伏安法和计时电位法对硅离子的还原机理进行了研究,结果表明此电化学反应为扩散控制的不可逆电极过程;求得硅离子在熔盐中的扩散系数D=1.33×10-3cm2/s(CSi4+=1.21×10-4mol/cm3,T=1 073 K)。

中文关键词: SiO2 KCl-NaCl-NaF 循环伏安法计时电位法

Abstract:

keywords: SiO2 KCl-NaCl-NaF Cyclic voltammetry Chronocoulometry

文章编号： 中图分类号：O611.3 文献标志码：

基金项目:国家自然科学基金资助项目(50674039)

何小凤李运刚李智慧河北理工大学;

HE Xiao-feng LI Yun-gang LI Zhi-hui Hebei Polytechnic University/a>;Tangshan 063009/a>;China

引用文本：
何小凤,李运刚,李智慧.KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系中硅离子的还原机理研究[J].有色金属（冶炼部分）,2010(2):.
.Study on Reductive Mechanism of Si Ion in KCl-NaCl-NaF-SiO2[J].Nonferrous Metals (Extractive Metallurgy),2010(2):.

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