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中文摘要: 在FLINAK-Na2SiF6熔盐体系中,以Pt为参比电极、硅钢片为工作电极、石墨为辅助电极,在750℃下,用循环伏安法和计时电位法对Si4+的电化学反应机理和扩散系数进行了研究。结果表明:该熔盐体系进行电沉积硅是可行的,该体系中硅离子的还原为扩散控制的可逆电极过程,且产物不可溶;整个还原过程为Si4++4e→Si0;该熔盐体系中阴极电位不应负于-2V,否则会有Na沉积出来,从而影响沉积层质量;Si4+的扩散系数为:D=5 42×10-11m2/s(C=2 58×103mol/m3)。
Abstract:
文章编号： 中图分类号：TF803.27 文献标志码：
基金项目:河北省自然科学基金资助项目(项目号502263)
李运刚 蔡宗英 唐国章 梁精龙
河北理工学院冶金工程系，河北理工学院冶金工程系，河北理工学院冶金工程系，河北理工学院冶金工程系 唐山 063009东北大学材料与冶金学院沈阳 110004，唐山 063009，唐山 063009，唐山 063009
引用文本：
李运刚,蔡宗英,唐国章,梁精龙.熔盐电沉积硅的基础研究[J].有色金属（冶炼部分）,2004(3):23-26.
.The Study on Foundation of Electrodeposited Silicon in Fused Salts[J].Nonferrous Metals (Extractive Metallurgy),2004(3):23-26.
李运刚,蔡宗英,唐国章,梁精龙.熔盐电沉积硅的基础研究[J].有色金属（冶炼部分）,2004(3):23-26.
.The Study on Foundation of Electrodeposited Silicon in Fused Salts[J].Nonferrous Metals (Extractive Metallurgy),2004(3):23-26.
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